оборудование для отложения паров

CVD печь химического осаждения из паровой фазы 1000°C печь для плавления и нагрева Атрибуты продукта......

Что такое LTAVD Низкотемпературная дуговая паровая осаждение (LTAVD) является новым дополнением к области процессов физической паровая осаждения като.......

CVD Использование высокочистого кварца GAMMA, GDP Газовая дисперионная пластина, X-1288 для химического отложения паров Кварцевая газораспределитель........

Плазма лаборатории увеличила печь низложения химического пара до 1200 градусов Умное введение ПЭКВД: Система ПЭКВД конструирована для того чтобы умень......

Увеличенная плазмой машина системы низложения химического пара PECVD Система PECVD, путем ионизировать атом-содержа газ с микроволной или радиочастото......

Система химического осаждения паров (CVD) Ультимативный вакуум 5*10-3Pa Вакуумная покрывающая машина Сфера примененияВакуумная покрывающая машина: О........

CVD крупный однокристаллический бриллиант CVD однокристаллический бриллиант 70GPa -120GPa Химический бриллиант отложения паров Размер: ≤ 20*20*3 мм.........

Химическое отложение паров CVD Вольфрамовые продукты Полупроводниковые вольфрамовые кольца Вольфрамовые кольца могут быть настроены по ширине, толщи........

Поднос SiC PVD Поднос кремниевого карбида PVD сформирован процессом изостатический отжимать и спекать на высокой температуре. Наружные диаметр, толщин......

Квадратная форма 6 мм - 8 мм EF Цвет Cvd Hpht Алмаз для изготовления круглых бриллиантовых бриллиантовых бриллиантов Искусственная лаборатория созда........

Основной индекс параметра: 1. оборудование: камера низложения, молекулярная насосная система, верхние и более низкие электроды, система пути газа, эле......