99 9 rhodium sputtering target

плита молибдена 3N5 99,95% брызгая цель для покрытия вакуума Введение молибдена брызгая цель Название продукта Очищенность Плотно.........

Титан брызгая цель 99,5%, 99,95% D100x40mm, D65x6.35mm Очищенность основной индекс представления материала цели, потому что очищенность материала це........

99,99% титан особой чистоты брызгая фабрика целей для лакировочной машины pvd 1. Титан особой чистоты брызгая цели Название пр.........

1,Описание: Материал: Целевые материалы вольфрама обычно изготавливаются из высокочистых вольфрама или вольфрамовых сплавов, специально разработанных.......

Описание продукта:Наша металлическая цель для распыливания связана с Индием, высокоэффективным материалом для обеспечения безопасной и надежной связ........

99,99% SiO2 брызгая цель Естественное стекло кварца имеет превосходную передачу в УЛЬТРАФИОЛЕТОВОМ ряде. Синтетическое стекло кварца (сплавленный.........

Цель 155OD*125ID*888 бескислородные медные чистые 99,97% медной трубки Продукт Цель медной трубки Размер φ155*φ125*888 Ранг Бескислородная медь Упаков......

Чистый металл ti особой чистоты диска 4n титана 99,99% брызгая цель Титан металлический и дуктильный. Ядровые перемещения по норме 5 090 m/s. Основны.......

цирконий особой чистоты 99,95% брызгая изготовление на заказ материалов для покрытий цели Описание циркония Цирконий и сплавы циркония имеют низ.........

Информация о продукте: Имя Цель по покрытию PVD танталом Уровень РО5200 РО5400 РО5252 РО5255 Чистота ≥ 99,95% Плотность 160,68 г/см3 Пове.........

Лепешка 3Н Хф лепешки 99,9% гафния чистая для продажи Атрибуты продуктов лепешек Хф Имя деталя Лепешка Хф материалов для покрытий.........

молибден особой чистоты брызгая скрепление целей с задним днищем для брызгать покрытие цель молибдена от Sifon: 1. особая чистота ≥99.95% 2..........

Имя цели: очищенность алюминиевой цели общая: 99,9% (3N) 99,99% (4N) 99,999% (5N) 99,9999% (6N) общих размера: размер 100*40mm максимальный: длиной ......

Магнетронная распылительная вакуумная установка Профессиональная магнетронная распылительная установка PVD вакуумного напыления, специально разрабо.........

Окись никеля (НиО) брызгая очищенность цели--- 99,9% Денстий---Р.И. 7.45г/км3---2~2.1 точка плавления ---Диапазон волны Транспаренсе 1410℃----0,52 ум ......