Shaanxi Peakrise Metal Co.,Ltd

идея  развития: Престижность во-первых, качественная сперва и обслуживание сперва цель бизнеса : Ведущее отечественное, standarded международное проверка качества : держите обещание, оснуйте на чес

Manufacturer from China
Сайт Участник
4 лет
Главная / продукты / Tantalum Plate /

ПВД покрытие Тантальная цель распыливания для полупроводникового покрытия и оптического покрытия

Категории продукта
контакт
Shaanxi Peakrise Metal Co.,Ltd
Город:baoji
Область/Штат:Shaanxi
Страна/регион:china
Контактное лицо:MrsNicole
контакт

ПВД покрытие Тантальная цель распыливания для полупроводникового покрытия и оптического покрытия

Спросите последнюю цену
Номер модели :обычай
Место происхождения :КНР
Минимальное количество заказов :1pc
Условия оплаты :T/T
Способность к поставкам :5tons/month
Время доставки :5-7 дней
Подробная информация об упаковке :корпус из фанеры
Имя :ПВД покрытие Тантал цель
Уровень :РО5200 РО5400 РО5252 РО5255
Чистота :≥99.95%
Плотность :160,68 г/см3
Поверхность :Подвергли механической обработке поверхность
Стандартный :ASTM B708
Статус поставки :прожаренный
Форма :Плоская цель Поворачивающаяся цель Специальная настройка формы
more
контакт

Add to Cart

Найти похожие видео
Посмотреть описание продукта

Информация о продукте:

 

Имя Цель по покрытию PVD танталом
Уровень РО5200 РО5400 РО5252 РО5255
Чистота ≥ 99,95%
Плотность 160,68 г/см3
Поверхность Обработанная поверхность, без ям, царапин, пятен, выпуклов и других дефектов
Стандартный ASTM B708
Форма Плоская мишень, вращающаяся мишень, специальная настройка.

 

ПВД покрытие Тантальная цель распыливания для полупроводникового покрытия и оптического покрытияПВД покрытие Тантальная цель распыливания для полупроводникового покрытия и оптического покрытия

 

Химическое содержание ПВД покрытия танталом:

 

Уровень Основные элементы   Содержание нечистоты менее %
  Да. Nb Фэ Да, да. Ни. W Мо Ти Nb О В H N
Ta1 Оставайся. —— 0.005 0.005 0.002 0.01 0.01 0.002 0.04 0.02 0.01 0.0015 0.01
Ta2 Оставайся. —— 0.03 0.02 0.005 0.04 0.03 0.005 0.1 0.03 0.01 0.0015 0.01
TaNb3 Оставайся. <3.5 0.03 0.03 0.005 0.04 0.03 0.005 —— 0.03 0.01 0.0015 0.01
TaNb20 Оставайся. 17.023.0 0.03 0.03 0.005 0.04 0.03 0.005 —— 0.03 0.01 0.0015 0.01
Ta2.5W Оставайся.   0.005 0.005 0.002 3 0.01 0.002 0.04 0.02 0.01 0.0015 0.01
Ta10W Оставайся.   0.005 0.005 0.002 11 0.01 0.002 0.04 0.02 0.01 0.0015 0.01

 

Особенности ПВД-тантальной цели:

 

высокая температура плавления,
Низкое давление пара,
Хорошие рабочие характеристики на холоде,
высокая химическая устойчивость,
Высокая устойчивость к коррозии жидких металлов,
Поверхностная оксидная пленка имеет большую диэлектрическую постоянную

 

Применение:

 

Тантальная цель и медная обратная цель сварятся, а затем выполняется полупроводниковое или оптическое распыливание,и атомы тантала оседают на материале субстрата в виде оксидов для достижения распылительного покрытияВ полупроводниковой промышленности тантальные цели используются в основном в полупроводниковых покрытиях, оптических покрытиях и других отраслях промышленности.металл (Ta) в настоящее время в основном используется для покрытия и формирования барьерного слоя посредством физического отложения пара (PVD) в качестве целевого материала.

 

Мы можем обрабатывать согласно чертежу клиента, и производить Та стержень, пластину, проволоку, фольгу, крепеж и т.д.

 


 

Пожалуйста, отправьте нам запрос для получения дополнительной информации

 

ПВД покрытие Тантальная цель распыливания для полупроводникового покрытия и оптического покрытия

Запрос Корзина 0