китай категории
Русский язык

Эпитаксиальная пластина GaN 375 мкм Отдельно стоящие подложки U-GaN SI-GaN

Номер модели:JDCD01-001-019
Место происхождения:Сучжоу Китай
Условия оплаты:T/T
Способность поставки:10000pcs/Month
Срок поставки:3-4 рабочих дня
Упаковывая детали:Вакуумная упаковка в чистом помещении класса 10000, в кассетах по 6 шт. или в одинарных вафельных ко
контакт

Add to Cart

Активный участник
Shanghai Shanghai China
Адрес: Здание 11, переулок 1333, проспект Цзяннань, город Чансин, район Чунмин, Шанхай
последний раз поставщика входа: в рамках 2 .
Информация о продукте Профиль Компании
Информация о продукте

350 ± 25 мкм (11-20) ± 3о, 8 ± 1 мм 2-дюймовые отдельно стоящие подложки U-GaN/SI-GaN

2-дюймовая C-образная нелегированная отдельно стоящая монокристаллическая подложка GaN n-типа Удельное сопротивление < 0,1 Ом·см Силовое устройство/лазерная пластина



Обзор
Стандарт в промышленности полупроводниковых материалов определяет метод проверки шероховатости поверхности монокристаллической подложки GaN с помощью атомно-силового микроскопа, который применяется к монокристаллическим подложкам GaN, выращенным химическим осаждением из паровой фазы и другими методами с шероховатостью поверхности менее 10 нм.


2-дюймовые отдельно стоящие подложки U-GaN/SI-GaN

Отличный уровень (С)


Уровень производства (А)

Исследовать

уровень (В)

Дурачок

уровень (С)


Примечание:

(1) Полезная площадь: исключение кромок и макродефектов

(2) 3 балла: углы смещения позиций (2, 4, 5) составляют 0,35 ± 0,15о

С-1С-2А-1А-2
Размеры50,8 ± 1 мм
Толщина350 ± 25 мкм
Ориентация плоская(1-100) ± 0,5о, 16 ± 1 мм
Вторичная ориентация плоская(11-20) ± 3о, 8 ± 1 мм
Удельное сопротивление (300K)

< 0,5 Ом·см для N-типа (нелегированный; GaN-FS-CU-C50)

или > 1 х 106Ом·см для полуизолирующих (легированных Fe; GaN-FS-C-SI-C50)

ТТВ≤ 15 мкм
ПОКЛОН≤ 20 мкм ≤ 40 мкм
Шероховатость поверхности Ga

< 0,2 нм (полированный)

или < 0,3 нм (полировка и обработка поверхности для эпитаксии)

N шероховатость лицевой поверхности

0,5 ~ 1,5 мкм

вариант: 1~3 нм (мелкий помол);< 0,2 нм (полированный)

УпаковкаУпаковано в чистом помещении в одиночный вафельный контейнер
Полезная площадь> 90%>80%>70%
Плотность дислокаций<9,9x105см-2<3x106см-2<9,9x105см-2<3x106см-2<3x106см-2
Ориентация: плоскость C (0001) под углом к ​​оси M

0,35 ± 0,15о

(3 балла)

0,35 ± 0,15о

(3 балла)

0,35 ± 0,15о

(3 балла)

Плотность макродефектов (отверстие)0 см-2< 0,3 см-2< 1 см-2
Максимальный размер макродефектов< 700 мкм< 2000 мкм< 4000 мкм

О нас

Мы специализируемся на переработке различных материалов в пластины, подложки и индивидуальные детали из оптического стекла. Компоненты широко используются в электронике, оптике, оптоэлектронике и многих других областях.Мы также тесно сотрудничаем со многими отечественными и зарубежными университетами, научно-исследовательскими институтами и компаниями, предоставляя индивидуальные продукты и услуги для их научно-исследовательских проектов.Наше видение - поддерживать хорошие отношения сотрудничества со всеми нашими клиентами благодаря нашей хорошей репутации.


Часто задаваемые вопросы

В: вы торговая компания или производитель?
Мы фабрика.
Q: Как долго ваше время доставки?
Обычно это 3-5 дней, если товар есть на складе.
или 7-10 дней, если товара нет на складе, в зависимости от количества.
Q: Предоставляете ли вы образцы?это бесплатно или дополнительно?
Да, мы можем предложить образец бесплатно, но не оплачиваем стоимость перевозки.
В: Каковы ваши условия оплаты?
Оплата <=5000USD, 100% предоплата.
Paymen> = 5000USD, 80% T/T заранее, остаток перед отправкой.

China Эпитаксиальная пластина GaN 375 мкм Отдельно стоящие подложки U-GaN SI-GaN supplier

Эпитаксиальная пластина GaN 375 мкм Отдельно стоящие подложки U-GaN SI-GaN

Запрос Корзина 0