XIAMEN POWERWAY ВЫДВИНУЛ МАТЕРИАЛЬНОЕ CO., LTD.

XIAMEN POWERWAY ADVANCED MATERIAL CO., LTD.

Manufacturer from China
Активный участник
6 лет
Главная / продукты / Вафля GaN /

Субстрат си-ГаН Фрестандинг ГаН неполярного самолета м для диодов барьера Шотткы (СБДс)

контакт
XIAMEN POWERWAY ВЫДВИНУЛ МАТЕРИАЛЬНОЕ CO., LTD.
Город:xiamen
Область/Штат:fujian
Страна/регион:china
контакт

Субстрат си-ГаН Фрестандинг ГаН неполярного самолета м для диодов барьера Шотткы (СБДс)

Спросите последнюю цену
Место происхождения :Китай
Количество минимального заказа :1-10,000пкс
Термины компенсации :T/T
Способность поставкы :10 000 вафель/месяц
Срок поставки :5-50 рабочих дней
Упаковывая детали :Упакованный в окружающей среде чистой комнаты класса 100, в одиночном контейнере, под атмосферой азо
Деталь :ПАМ-ФС-ГАН М-СИ
Название продукта :Субстрат СИ-ГаН Фрестандинг ГаН
Тип кондукции :Семи изолирующ
Размерности :5 кс 10 мм2
Толщина :350 ±25 μм 430±25μм
Другое имя :ган вафля
more
контакт

Add to Cart

Найти похожие видео
Посмотреть описание продукта

 

Субстрат си-ГаН Фрестандинг ГаН неполярного самолета м для диодов барьера Шотткы (СБДс)

 

ПАМ-СИАМЭН установило технологию изготовления для фрестандинг (нитрид галлия) вафли субстрата ГаН которая для УХБ-ЛЭД и ЛД. Расти технологией (HVPE) эпитаксии участка пара гидрида, наш субстрат ГаН имеет низкую плотность дефекта и или свободную плотность дефекта макроса.

 

ПАМ-СИАМЭН предлагает полный диапасон ГаН и родственных материалов ИИИ-Н включая субстраты ГаН различных ориентаций и электрической проводимости, шаблонов крысталлинеГаН&АлН, и изготовленных на заказ епиваферс ИИИ-Н.

 

Здесь показывает детальную спецификацию:

Субстрат си-ГаН Фрестандинг ГаН самолета м

Деталь ПАМ-ФС-ГаН М-СИ
Размер 5 кс 10 мм2
Толщина 350 ±25 µм µм 430 ±25
Ориентация

Самолет м (1-100) с угла к -оси 0 ±0.5°

Самолет м (1-100) с угла к К-оси -1 ±0.2°

Тип кондукции Полу-изолировать
Резистивность (300К) >106 Ω·см
ТТВ µм ≤ 10
СМЫЧОК -10 µм ≤ 10 СМЫЧКА ≤ µм
Шероховатость поверхности

Лицевая сторона: Ра<0>

Задняя сторона: Точная земля или отполированный.

Плотность дислокации От 1 кс 10 5 до 5 кс 10 6 см-2
Плотность дефекта макроса 0 см-2
Годная к употреблению область > 90% (исключение края)
Пакет каждое в одиночном контейнере вафли, под атмосферой азота, упакованной в комнате класса 100 чистой

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Применение субстрата ГаН

Полупроводниковое освещение: Приборы ГаН использованы как диоды ультра высокой яркости светоизлучающие (СИД), ТВ, автомобили, и общее освещение

 

Хранение ДВД: Голубые лазерные диоды

 

Прибор силы: Приборы ГаН использованы как различные компоненты в высокомощной и высокочастотной производительности электроники как клетчатые базовые станции, спутники, усилители силы, и инверторы/конвертеры для электротранспортов (EV) и гибридных электротранспортов (HEV). Чувствительность ГаН низкая к ионизирующему излучению (как другие нитриды группы ИИИ) делает им соответствующий материал для бортовых применений как массивы фотоэлемента для спутников и высокомощных, высокочастотных приборов для сообщения, погоды, и спутников наблюдения

 

Беспроводные базовые станции: Транзисторы силы РФ

Беспроводной широкополосный доступ: высокочастотное ММИКс, РФ-цепи ММИКс

Датчики давления: МЭМС

Тепловые датчики: Пыро-электрические детекторы

Подготовлять силы: Интеграция смешанного сигнала ГаН/Си

Автомобильная электроника: Высокотемпературная электроника

Линии передачи энергии: Высоковольтная электроника

Датчики рамки: УЛЬТРАФИОЛЕТОВЫЕ детекторы

Фотоэлементы: Зазор диапазона ГаН широкий покрывает солнечный спектр от 0,65 еВ к еВ 3,4 (которое практически весь солнечный спектр), делая нитрид галлия индия

(ИнГаН) сплавляет идеальное для создания материала фотоэлемента. Вследствие этого преимущество, фотоэлементы ИнГаН, который выросли на субстратах ГаН балансировано для того чтобы стать одним из самых важных новых применений и рынка роста для вафель субстрата ГаН.

Идеал для ХЭМЦ, ФЭЦ

Проект диода ГаН Шотткы: Мы принимаем изготовленные на заказ спецификации диодов Шотткы изготовленных на, который ХВПЭ-выросли, свободно стоящие слоях нитрида галлия (ГаН) н- и п-типах.

Оба контакта (омовского и Шотткы) были депозированы на верхней поверхности используя Ал/Ти и Пд/Ти/Ау.

 

 

ОТЧЕТ О материал-ТЕСТА Трансмитансе-ГаН

Отчет по испытанию необходим для того чтобы показать соответствие между изготовленным на заказ описанием и нашими окончательными данными по вафель. Мы испытаем чарасеризатион вафли оборудованием перед пересылкой, испытывая шероховатость поверхности атомным микроскопом силы, тип римской аппаратурой спектров, резистивность внеконтактным оборудованием для испытаний резистивности, плотность микропипе путем поляризовывая микроскоп, ориентацию рентгеновским снимком Ориентатор етк. если вафли соотвествуют, то, мы очистим и упаковать их в комнате 100 классов чистой, если вафли не соответствуют изготовленным на заказ спецификациям, то мы примем их.

 

Пропускаемость поверхности вафли эффективность своей передачи радиационной энергии. Сравненный с коэффициентом передачи, это часть силы случая электромагнитной переданной через образец, и коэффициент передачи коэффициент переданного электрического поля к электрическому полю случая.

 

Субстрат си-ГаН Фрестандинг ГаН неполярного самолета м для диодов барьера Шотткы (СБДс)

Трансмитансе материала ГаН

 

Запрос Корзина 0