Тонкопленочная мишень для напыления ZnO (оксида цинка) для процесса PVD
Цели для планарного распыливания молибдена
99,99% чистый металл ti особой чистоты диска 4n титана брызгая плотность цели низкая
Никель NI 200 сплавляет брызгать сплав сплава никеля цели чистый основанный на никел
Трубопровод нержавеющей стали DIN2462 для плоскостной цели брызгать
990,95% Чистый вольфрам для металлических целей W Вольфрам для целей против коррозии
Чистый Хф лепешки цилиндра гафния окисей редкой земли брызгая материал целей
Цель высокодиэлектрического латаннового распыливания для изготовления чипов памяти полупроводников без утечек
99,6% титан круга очищенности GR1 GR2 брызгая оборудование цели
Естественный составной сплавленный кремнезем брызгая высокая температура цели устойчивая
Титановый дисковой диска для ПВД покрытия
Cr магнетрона Feiteng брызгая цель OD127*ID458*10
Цель брызгать циркония ротатабельная для высокой плотности системы покрытия PVD
Круглый молибден продуктов молибдена брызгая цель для вакуума брызгая покрывая диск молибдена цели молибдена
Брызгать металла W-ti целится плоскостное заготовка для депо пара полупроводника физического
чистый молибден 10.2g/Cm3 прямоугольный/круглый плита брызгая цель для покрытия
Системы низложения PLD пульсированного лазера брызгают цель для магнетрона DC RF брызгая системы