99,99% чистый металл ti особой чистоты диска 4n титана брызгая плотность цели низкая
Мишени для распыления вольфрама (W) для PVD-покрытий
Никель NI 200 сплавляет брызгать сплав сплава никеля цели чистый основанный на никел
Трубопровод нержавеющей стали DIN2462 для плоскостной цели брызгать
Цель высокодиэлектрического латаннового распыливания для изготовления чипов памяти полупроводников без утечек
Естественный составной сплавленный кремнезем брызгая высокая температура цели устойчивая
Титановый дисковой диска для ПВД покрытия
Круглые Титанюм цели сплава/титан распыляя цели для покрытия
W Вольфрамовая мишень Рядкоземельная плавка Титановая вольфрамовая цель для распыливания
990,95% Чистый вольфрам для металлических целей W Вольфрам для целей против коррозии
чистый молибден 10.2g/Cm3 прямоугольный/круглый плита брызгая цель для покрытия
Вольфрам сплава вольфрама тантала квадратный брызгая отжимать цели горячий изостатический
Cr магнетрона Feiteng брызгая цель OD127*ID458*10
Системы низложения PLD пульсированного лазера брызгают цель для магнетрона DC RF брызгая системы
Цель молибдена вольфрама для печи вакуума спекая
Круглый вольфрам брызгая цель для магнетрона брызгая покрывая запас круга вольфрама цели вольфрама диска вольфрама
Точный вольфрам размера зерна брызгая цель с бедром/Сип/процессом кузницы