99.995% Чистота Титановый Путтерный Цель ПВД Покрытие вращающиеся трубки Цели
Мишень из вольфрама и титана WTi, пропорция 90:10, настраиваемый размер
99,6% титан круга очищенности GR1 GR2 брызгая оборудование цели
Цель для распыливания титана высокой чистоты 99,99%
99,99% чистый металл ti особой чистоты диска 4n титана брызгая плотность цели низкая
W Вольфрамовая мишень Рядкоземельная плавка Титановая вольфрамовая цель для распыливания
Естественный составной сплавленный кремнезем брызгая высокая температура цели устойчивая
Цель высокодиэлектрического латаннового распыливания для изготовления чипов памяти полупроводников без утечек
Никель NI 200 сплавляет брызгать сплав сплава никеля цели чистый основанный на никел
Трубопровод нержавеющей стали DIN2462 для плоскостной цели брызгать
Цель брызгать особой чистоты 99,5% Титанюм для системы покрытия Пвд
Титан покрытия вакуума Gr1 брызгая цель 133OD*125ID*840L
Отсутствие титана царапин брызгая очищенность цели высокопрочная
Gr2 Gr1 DIA 100*40MM Круглый титановый цель для вакуумного покрытия
чистый молибден 10.2g/Cm3 прямоугольный/круглый плита брызгая цель для покрытия
Системы низложения PLD пульсированного лазера брызгают цель для магнетрона DC RF брызгая системы