99,99% чистый металл ti особой чистоты диска 4n титана брызгая плотность цели низкая
Трубопровод нержавеющей стали DIN2462 для плоскостной цели брызгать
Никель NI 200 сплавляет брызгать сплав сплава никеля цели чистый основанный на никел
Высокочистая форма пластинки-мишень для распыливания хрома хрома для ПВД-машины для покрытия
Титан pvd особой чистоты брызгая цель металла цели подгонял
Линия непрерывного вакуумного напыления PVD для магнетронного распыления хрома
Естественный составной сплавленный кремнезем брызгая высокая температура цели устойчивая
Цель высокодиэлектрического латаннового распыливания для изготовления чипов памяти полупроводников без утечек
Настраиваемый по размеру хромовый мишень для вращательного / планарного распыления Cr
Цели для планарного распыливания молибдена
990,95% Чистый вольфрам для металлических целей W Вольфрам для целей против коррозии
Брызгать металла W-ti целится плоскостное заготовка для депо пара полупроводника физического
Хромий Pvd брызгая Target/Cr брызгая цель/плановая цена Chrome
Круглый молибден продуктов молибдена брызгая цель для вакуума брызгая покрывая диск молибдена цели молибдена
чистый молибден 10.2g/Cm3 прямоугольный/круглый плита брызгая цель для покрытия
хромий 3N5 127*458*10mm брызгая форма плиты цели
Системы низложения PLD пульсированного лазера брызгают цель для магнетрона DC RF брызгая системы