JINXING MATECH CO LTD
ДЖИНСИНГ МАТЭКХ экспертный поставщик на решении металла. Особенно на продуктах как медь сплава вольфрама, вольфрама, титан, цирконий, ванадий, гафний, брызгая цель, металл етк Нобел,
Add to Cart
Цель вольфрама, WTi брызгая цель, вольфрам брызгая цель важный субстрат для фильма окиси вольфрама для того чтобы осуществить свой функциональный переход в полупроводниковом устройстве. Должный к высокой точке плавления вольфрама, целей вольфрама главным образом подготовьте порошковыми металлургиями
Описание
Вольфрам брызгая цель важный субстрат для фильма окиси вольфрама для того чтобы осуществить свой функциональный переход в полупроводниковом устройстве. Должный к высокой точке плавления вольфрама, целей вольфрама главным образом подготовьте порошковыми металлургиями
Должный к своим высокотемпературной стабильности, высокому сопротивлению перехода электрона и высокому коэффициенту электронной эмиссии, тугоплавкому вольфраму металла и сплавам вольфрама широко используйте в производстве интегральной схемаы большого диапазона полупроводника. Высокочистые цели вольфрама и сплава вольфрама для полупроводников. Области применения, требования производительности и методы подготовки материалов были проанализированы подробно, и направление развития было искать. Высокочистые цели вольфрама и сплава вольфрама главным образом использованы для того чтобы изготовить электроды ворот, проводки соединения и границы диффузии интегральных схема полупроводника. Etc.,
весьма высокие требования на очищенности единообразия материалов, содержания примеси, плотности, размера зерна и зернистой структуры. Высокочистые цели вольфрама и сплава вольфрама главным образом используют горячий отжимать, горячий изостатический отжимать, etc. посредством средств-частоты спекая + обработка давления, высокочистая, цели вольфрама высокой плотности можно подготовить, но управление единообразия размера зерна и зернистой структуры, нет столь же хороший как цели вольфрама подготовленные горячий изостатический отжимать.
Спеченная цель вольфрама для брызгать, характеризовала в этом она показывает относительную плотность 99% или больше, среднем диаметре кристаллического зерна 100 m или более менее, содержании кислорода 20 ppm или более менее и силы отклонения MPa 500 или больше и метода для подготовки цели вольфрама со стабильностью на низкой цене, которая использует улучшенные условия продукции для порошка вольфрама сырья и улучшенные условия спекать. Спеченная цель вольфрама имеет высокий уровень плотности и высокой степени мелкости кристаллической структуры которая никогда не была достигана обычным методом спекать давления и заметно улучшена в силе отклонения, которая приводила в значительном уменшении в возникновении дефектов частицы.
| Плотности | Метод |
| 19.2g/cm3 | Вковка |
| 18.2g/cm3 | Спекать |
Материал: Вольфрам
Условие: земля
Применение: Индустрия PVD покрывая, трубка рентгеновского снимка и так далее.
