Окись гафния, ХФО2, окись гафния, окись гафния, оптически материалы для покрытий, спекать окиси гафния особой чистоты
Химическое имя: ХФО2
Возникновение: белый
Молекулярный вес: 210,49
Плотность: ³ 9.7г/км
Точка плавления: 2500℃
Р.И. (длина волны /nm): 1.9-2.1 (300)
1.84-2.0 (2500)
Температура кипения: 5400℃
Линейный коэффициент расширения: 5,8 * 10-6/к (250-1300)
температура вакуумного испарения 10'с 4: 2500℃
Режим испарения: луч электронов
Прозрачный диапазон /nm: 235-2500
Диэлектрическая константа: 20.5-23
Том: 0.05μФ/км2
Коэффициент температуры ТКК емкости: (1.25~2.50) ×10-4/℃
Представление: соответствующий для испарения электронной пушки, денсификатион фильма и стабильности. Превосходный материал для ультрафиолетов диапазона. Не растворяет в воде, устойчивой к химическим свойствам, а в условиях высоких температур может прореагировать с окисоводоподом, фильм трудн;
Применение: оно главным образом использован в ультрафиолетов фильме, анти- анти- фильме или высоко- задней части - фильме и огнезащитном материале, УФ- близко - ультракрасный разнослоистый фильм.
Тонкий фильм ХфО2 вид изолируя окиси, может сделать сопротивление фильма, но также может быть использован как фильм, общее пользование брызгать низложение.
