CO. материалов металла Baoji Feiteng, Ltd.
Future Technology, Faithful Trading
Add to Cart
Титан Gr2 ASTM B861-06 цели трубки титана 133OD*125ID*2940L включает цель титана фланца роторную
| Имя | Цель трубки титана |
| Стандарт |
ASTM B861-06 |
|
Пакет перехода |
Пакет вакуума в деревянном случае |
|
Начало |
Baoji, Шэньси, Китай |
|
Порт поставить |
Порт Сиань, порт Пекин, порт Шанхая, порт Гуанчжоу, порт Шэньчжэня |
| Размер | φ133*φ125*2940 (включите фланец) |
Тенденция технического прогресса цели трубки близко связана с направлением развития технологии фильма в идущих дальше по потоку индустриях применения. С технологическим улучшением продуктов или компонентов фильма в индустриях применения, технология цели должна также изменить соответственно. К тому же, в последние годы, плоский экран (FPD) в большинстве заменял катодный луч трубка (CRT) основала монитор компьютера и рынок ТЕЛЕВИДЕНИЯ. Также, значительно увеличит технологию и рыночный спрос цели ITO. В дополнение к технологии памяти. Требование для высокой плотности, высокоемких жестких дисков и CD высокой плотности стираемых продолжается увеличить. Все из этих водят к изменениям в требовании для материалов цели в индустрии применения. Основные области применения материалов цели и направление развития материалов цели в этих полях будут введены соответственно.
Покрытие вакуума ссылается на метод формировать тонкий фильм путем нагревать металл или неметаллический материал под условиями глубокого вакуума так, что оно испарится и конденсирует на поверхности покрытой части (металла, полупроводника или изолятора).
Покрытие вакуума важный аспект области применения вакуума, его основано на технологии вакуума, используя медицинский осмотр или химические методы, и абсорбции луча электронов, молекулярного луча, луча иона, луча иона, радиочастоты и магнитного контроля и серии новых технологий, для научного исследования и практически продукции для предусмотрения нового процесса подготовки фильма. Проще говоря, метод испарять или брызгать металл, сплав или смесь в вакууме так, что он затвердеет и депозирует на покрытом объекте (вызвал субстрат, субстрат или матрицу) вызван покрытием вакуума.
Главные преимущества