pvd sputtering process

Оборудование для осаждения золотом, машина для осаждения PVD серебра и золота, система для осаждения PVD с проводящей пленкой Резюме:Процесс DP.........

Описание продукта: Одним из главных преимуществ этого изделия является его прочность на изгиб, которая составляет 450 МПа. Это делает его прочным ма........

Описание Цели для распыливания - это материалы, из которых тонкие пленки выращиваются методом распыливания, а цели изготавливаются путем обработки м........

Что PVD? PVD стоит для физического низложения пара. Вид тонкопленочного покрывая метода и процесса в котором твердый материал испарен в окружающей ср.......

1,Описание: Цель распыливания молибдена - высокочистый материал, используемый в физических процессах отложения пара (PVD). Он обычно используется в т.......

99,95% чистый молибден брызгая цели для покрытия PVD Введение молибдена брызгая цель 2 вида молибдена брызгая цели: цель молибдена плоскостн.........

Вольфрамо-молибденовая сплавная пластина Цель для магниторонного распыливания покрытия PVD Arc Ion Plating 1. Информация о целевой плате из вольфрам........

Целевой продукт высококачественного чистого вольфрама для продажи с высокой температурной стойкостью Описание продукта .........

Двуокись кремния брызгая цель с поверхностью тонкого помола обрабатываемой CNC Кварц стеклянное SiO2 также вызвал стекло кремнезема очень важный.........

Лепешка 3Н Хф лепешки 99,9% гафния чистая для продажи Атрибуты продуктов лепешек Хф Имя деталя Лепешка Хф материалов для покрытий.........

Цель Pvd сплава титана коррозионной устойчивости для медицинской/промышленной покрывая спецификации: Pvd сплава титана имени GR1 GR2 GR5 деталя целитс......

Титан Gr1 ASTM B861-06 цели покрытия вакуума цели трубки титана 133OD*125ID*840 Имя деталя Цель трубки титана Размер φ133*φ125*840 Ранг Gr1 Упаковка П......

вакуум машины вакуумного напыления 12 микронов металлизируя магнетрон машины брызгая машина Характер продукции Вакуум пользы машины металлизируя спи........