Riselaser Technology Co., Ltd
Профессиональный изготовитель оборудований лазера.
Add to Cart
Лазерная очистная машина 1000w Лазерная машина для удаления ржавчины
Лазерная очистная машина введение:
Лазерное очистное оборудование - это новое поколение подповерхностной очистки высокотехнологичных изделий.
Образцы очистки
Параметры машины
| Модель | RL-C1000 | RL-C1500 | RL-C2000 |
| Длина волны | 1080 нм | 1080 нм | 1080 нм |
| Средняя мощность | 1000 Вт | 1500 Вт | 2000 Вт |
| Частота | 20-50 кГц | 50 кГц | 50 кГц |
| Тип лазера | Лазерные волокна CW | Лазерные волокна CW | Лазерные волокна CW |
| Чистая скорость | ≤ 40 м2/час | ≤ 40 м2/час | ≤ 40 м2/час |
| Длина волоконного кабеля | 10M ((другие необязательно) | 10M ((другие необязательно) | 10M ((другие необязательно) |
| Трудовая жизнь | 100,000 часов | 100,000 часов | 100,000 часов |
| Машины | 120 кг | 120 кг | 120 кг |
| Охлаждение | Охлаждение водяным холодильником | Охлаждение водяным холодильником | Охлаждение водяным холодильником |
| Необязательно | Ручная/автоматическая | Ручная/автоматическая | Ручная/автоматическая |
| Температура | 5-40°С | 5-40°С | 5-40°С |
| Ширина луча | 10-70 мм | 10-70 мм | 10-70 мм |
| Чистая скорость | Однофазная 220В,50/60Гц |
Однофазная 220В,50/60Гц |
Однофазная 220В,50/60Гц |
Размер машины
Применение лазерного пистолета для удаления ржавчины
Лазерное удаление ржавчины 1000w широко используется для поверхностного лазерного обезжиривания, лазерного удаления краски, лазерного удаления цинка, лазерного удаления пленки, лазерной очистки, такой как покрытие и т. д.
Краткое введение машины лазерного пистолета для удаления ржавчины
Лазерная очистная машина является новым поколением промышленной очистки поверхности лазерной системы.лазерные оптические сканеры и система управления для удовлетворения требований процесса очистки металлической поверхности.
Метод лазерной сухой очистки лазерного пистолета для удаления ржавчины
Используйте импульсный лазер для очистки ржавчины напрямую, он будет генерировать вибрацию после того, как лазерная энергия будет поглощена базой или частицами, затем отделите основу и загрязняющее вещество.