SHANGHAI ROYAL TECHNOLOGY INC.
ЖИВИТЕ ЛОКАЛЬНО, ДУМАЙТЕ ГЛОБАЛЬНО
Add to Cart
Керамическая излучающая подложка Купер Магнетронное напыление Завод по нанесению покрытий / Керамические чипы Непосредственно оборудование для напыления меди
Установка для нанесения магнетронного напыления Cooper на керамическую излучающую подложку
Процесс DPC — прямое нанесение меди — это передовая технология покрытия, применяемая в светодиодной, полупроводниковой и электронной промышленности.Одним из типичных применений является керамическая излучающая подложка.
Осаждение проводящей пленки меди на подложках Al2O3, AlN, Si, Glass с помощью технологии вакуумного напыления PVD по сравнению с традиционными методами производства: DBC LTCC HTCC, особенности:
1. Гораздо более низкая стоимость производства.
2. Превосходное управление температурой и эффективность теплопередачи.
3. Точное выравнивание и дизайн рисунка,
4. Высокая плотность цепи
5. Хорошая адгезия и способность к пайке.
Королевская технологическая команда помогла нашему клиенту успешно разработать процесс DPC с технологией напыления PVD.
Благодаря своим передовым характеристикам подложки DPC широко используются в различных приложениях:
Светодиод высокой яркости для увеличения срока службы из-за его высокоготепловое излучениепроизводительность, полупроводниковое оборудование, микроволновая беспроводная связь, военная электроника, различные сенсорные подложки, аэрокосмическая промышленность, железнодорожный транспорт, электроэнергетика и т. д.
Оборудование RTAC1215-SP разработано исключительно для процесса DPC, при котором на подложки наносится медный слой.В этом оборудовании используется принцип физического осаждения из паровой фазы методом PVD с методами многодугового ионного покрытия и магнетронного напыления для получения идеальной пленки с высокой плотностью, высокой стойкостью к истиранию, высокой твердостью и прочным связыванием в условиях высокого вакуума.Это решающий шаг для остальных процессов DPC.
Основные характеристики машины для нанесения покрытия напылением меди
1. Оснащен 8 направляющими дуговыми катодами и катодами для распыления постоянного тока, катодами для распыления MF, блоком источника ионов.
2. Доступно многослойное и совместное покрытие.
3. Источник ионов для предварительной обработки плазменной очистки и осаждения с помощью ионного луча для повышения адгезии пленки.
4. Блок нагрева керамических/Al2O3/AlN подложек;
5. Система вращения и вращения подложки для одностороннего и двустороннего покрытия.
Технические характеристики машины для нанесения покрытия медным напылением
Производительность
1. Предельное вакуумметрическое давление: лучше 5,0×10-6Торр.
2. Рабочее давление вакуума: 1,0×10-4Торр.
3. Время откачки: от 1 атм до 1,0×10-4Torr≤ 3 минуты (комнатная температура, сухая, чистая и пустая камера)
4. Металлизирующий материал (напыление + дуговое напыление): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr и т.д.
5. Операционная модель: полностью автоматический/полуавтоматический/ручной
Структура
Вакуумная лакировальная машина содержит ключевую завершенную систему, указанную ниже:
1. Вакуумная камера
2. Вакуумная насосная система для промывки (блок форвакуумного насоса)
3. Высоковакуумная насосная система (молекулярный насос с магнитной подвеской)
4. Электрическая система управления и эксплуатации
5. Система вспомогательных помещений (подсистема)
6. Система осаждения
Образцы
Пожалуйста, свяжитесь с нами для получения дополнительных спецификаций, Royal Technology имеет честь предоставить вам комплексные решения для покрытий.