ФИЗИЧЕСКИЙ ПРОЦЕСС НИЗЛОЖЕНИЯ ПАРА (PVD) ИСПОЛЬЗОВАН В ПРОИЗВОДСТВЕ ОБЛОМОКА СИД, ПОДНОСЕ SIC PVD
Номер модели:MS
Место происхождения:КИТАЙ
Количество минимального заказа:1 часть
Условия оплаты:L/C, D/A, D/P, T/T, западное соединение, MoneyGram
Способность поставки:10000 частей в месяц
Срок поставки:3 рабочего дня
контакт
Add to Cart
Активный участник
Zhengzhou Henan China
Адрес:
Но. 26, улица Dongqing, высокотехнологичная зона, Zhengzhou, Хэнань, Китай
последний раз поставщика входа:
в рамках 48 .
Информация о продукте
Профиль Компании
Информация о продукте
Поднос SiC PVD
Поднос кремниевого карбида PVD сформирован процессом изостатический отжимать и спекать на высокой температуре. Наружные диаметр, толщина, номер и размер acupoints, положения и формы паза планшета могут также быть закончены согласно требованиям чертежей дизайна потребителя соотвествовать специфические потребителя.
Типичные применения
- Физический процесс низложения пара (PVD) использован в производстве обломока СИД.
Особенности и преимущества
- Высокая плотность
- Хорошая термальная проводимость, низкий коэффициент расширения и единообразие температуры
- Сопротивление удара плазмы
- Устойчивый ко всем видам сильной корозии химического реактива кислоты и алкалиа
- После чистки ранга полупроводника
Спецификации 230/300/330mm
ФИЗИЧЕСКИЙ ПРОЦЕСС НИЗЛОЖЕНИЯ ПАРА (PVD) ИСПОЛЬЗОВАН В ПРОИЗВОДСТВЕ ОБЛОМОКА СИД, ПОДНОСЕ SIC PVD
Запрос Корзина
0