ICP (индуктивно соединенная плазма) вытравляя процесс в производстве обломока СИД вызван индуктивно соединенной плазмой вытравляет
Номер модели:MS
Место происхождения:КИТАЙ
Количество минимального заказа:1 часть
Условия оплаты:L/C, D/A, D/P, T/T, западное соединение, MoneyGram
Способность поставки:10000 частей в месяц
Срок поставки:3 рабочего дня
контакт
Add to Cart
Активный участник
Zhengzhou Henan China
Адрес:
Но. 26, улица Dongqing, высокотехнологичная зона, Zhengzhou, Хэнань, Китай
последний раз поставщика входа:
в рамках 48 .
Информация о продукте
Профиль Компании
Информация о продукте
Поднос SiC ICP
Поднос ICP кремниевого карбида сформирован процессом изостатический отжимать и спекать на высокой температуре. Наружные диаметр, толщина, номер и размер acupoints, положения и формы паза планшета могут также быть закончены согласно требованиям чертежей дизайна потребителя соотвествовать специфические потребителя.
Типичные применения
- ICP (индуктивно соединенная плазма) вытравляя процесс в производстве обломока СИД вызван индуктивно соединенным вытравливанием плазмы.
Особенности и преимущества
- Хорошая термальная проводимость, низкий коэффициент расширения и единообразие температуры
- Сопротивление удара плазмы
- Можно сделать согласно специфическим требованиям к размера клиентов, максимальный диаметр может достигнуть 495MM
- Устойчивый ко всем видам сильной корозии химического реактива кислоты и алкалиа
Спецификации: Диаметр 330/380mm
ICP (индуктивно соединенная плазма) вытравляя процесс в производстве обломока СИД вызван индуктивно соединенной плазмой вытравляет
Запрос Корзина
0