китай категории
Русский язык

подложка вафли СиК эпитаксиальной вафли 4Х СиК для фотонных приборов ИСО9001

Номер модели:JDCD03-002-008
Место происхождения:Сучжоу Китай
Условия оплаты:T/T
Срок поставки:3-4 рабочих дня
Упаковывая детали:Вакуумная упаковка в чистых помещениях класса 10000, в кассетах по 25 шт. или в одинарных вафельных
Название продукта:Вафля Sic эпитаксиальная
контакт

Add to Cart

Активный участник
Shanghai Shanghai China
Адрес: Здание 11, переулок 1333, проспект Цзяннань, город Чансин, район Чунмин, Шанхай
последний раз поставщика входа: в рамках 2 .
Информация о продукте Профиль Компании
Информация о продукте

Эпитаксиальная пластина 4H SiC ≤0,2 /см2 150,0 мм +0 мм/-0,2 мм 47,5 мм ± 1,5 мм

JDCD03-001-004


Обзор

Эпитаксальная пластина представляет собой пластину из полупроводникового материала, изготовленную путем эпитаксиального роста (называемого эпитаксией) для использования в производстве полупроводниковых и фотонных устройств, таких как светоизлучающие диоды (СИД).В настоящее время используется несколько методов выращивания эпитаксиального слоя на существующих кремниевых или других пластинах: химическое осаждение из паровой фазы металлоорганических соединений (MOCVD) и молекулярно-лучевая эпитаксия (MBE), LPE, HVPE.


СвойствоP-MOS классP-SBD классD класс
Кристаллическая Форма4 часа
ПолитипРазрешеноПлощадь≤5%
(MPD)а≤0,2 /см2≤0,5 /см2≤5 /см2
Шестигранные пластиныРазрешеноПлощадь≤5%
Шестиугольный поликристаллРазрешено
ВключенияаПлощадь≤0,05%Площадь≤0,05%Н/Д
Удельное сопротивление0,015 Ом•см — 0,025 Ом•см0,015 Ом•см — 0,025 Ом•см0,014 Ом•см — 0,028 Ом•см
(ЭПД)а≤4000/см2≤8000/см2Н/Д
(ТЕД)а≤3000/см2≤6000/см2Н/Д
(БПД)а≤1000/см2≤2000/см2Н/Д
(ТСД)а≤600/см2≤1000/см2Н/Д
Ошибка укладки≤0,5% площади≤1% ПлощадьН/Д

Загрязнение поверхности металлом


(Al, Cr, Fe, Ni, Cu, Zn, Pb, Na, K, Ti, Ca, V, Mn) ≤1E11 см-2

Диаметр150,0 мм +0 мм/-0,2 мм
Ориентация поверхностиВне оси: 4 ° в сторону <11-20> ± 0,5 °
Первичная плоская длина47,5 мм ± 1,5 мм
Вторичная плоская длинаНет вторичной квартиры
Первичная плоская ориентацияПараллельно <11-20>±1°
Вторичная плоская ориентацияН/Д
Ортогональная разориентация±5,0°
Чистота поверхностиC-лицо: оптическая полировка, Si-лицо: CMP
Вафельный крайскашивание

Шероховатость поверхности

(10 мкм × 10 мкм)

Si Face Ra≤0,20 нм ; C Face Ra≤0,50 нм
Толщинаа350,0 мкм ± 25,0 мкм
LTV(10мм×10мм)а≤2 мкм≤3 мкм
(ТТВ)а≤6 мкм≤10 мкм
(ПОКЛОН)а≤15 мкм≤25 мкм≤40 мкм
(Деформация)а≤25 мкм≤40 мкм≤60 мкм
Сколы/отступыНе допускается Ширина и глубина ≥0,5 ммКол-во 2 ≤1,0 мм Ширина и глубина

Царапиныа

(Си Лицо, CS8520)

≤5 и совокупная длина≤0,5×диаметр пластины

≤5 и совокупная длина≤1,5 × пластина

Диаметр

БТУ(2мм*2мм)≥98%≥95%Н/Д
ТрещиныРазрешено
ЗагрязнениеРазрешено
СвойствоP-MOS классP-SBD классD класс
Исключение краев3 мм

Примечание. Исключение края 3 мм используется для элементов, отмеченныха.


О нас

Мы специализируемся на переработке различных материалов в пластины, подложки и индивидуальные детали из оптического стекла. Компоненты широко используются в электронике, оптике, оптоэлектронике и многих других областях.Мы также тесно сотрудничаем со многими отечественными и зарубежными университетами, научно-исследовательскими институтами и компаниями, предоставляя индивидуальные продукты и услуги для их научно-исследовательских проектов.Наше видение - поддерживать хорошие отношения сотрудничества со всеми нашими клиентами благодаря нашей хорошей репутации.


Часто задаваемые вопросы

В: вы торговая компания или производитель?
Мы фабрика.
Q: Как долго ваше время доставки?
Обычно это 3-5 дней, если товар есть на складе.
или 7-10 дней, если товара нет на складе, в зависимости от количества.
Q: Предоставляете ли вы образцы?это бесплатно или дополнительно?
Да, мы можем предложить образец бесплатно, но не оплачиваем стоимость перевозки.
В: Каковы ваши условия оплаты?
Оплата <=5000USD, 100% предоплата.
Paymen> = 5000USD, 80% T/T заранее, остаток перед отправкой.

China подложка вафли СиК эпитаксиальной вафли 4Х СиК для фотонных приборов ИСО9001 supplier

подложка вафли СиК эпитаксиальной вафли 4Х СиК для фотонных приборов ИСО9001

Запрос Корзина 0