WF: 300 – 2400nm
Численная апертура (NA)
0,22 ± 0,02 или подгонянный
Рабочая температура: -65~+350℃
Стандартный диаметр ядра: μm 150 ±3
Стандартный диаметр ядра: μm 150 ±3
Диаметр плакирования: μm 165 ±3
Покрывая диаметр: μm 195 ±10
Ядр/смещение плакирования: < 3="">
Недолгосрочные отклонения температуры: 350℃
Уровень контрольного испытания: kpsi 100
Волокна с содержанием воды OH высоты
доступный по требованию
Keypoints:
Стандартное контрольное испытание
100kpsi (нейлон, ETFE, куртка акрилита) |
70kpsi (куртка polyimide)
Минимальный гнуть диаметр плакирования × radius50
100kpsi (нейлон, ETFE, куртка акрилита) |
70kpsi (куртка polyimide)
Минимальный гнуть диаметр плакирования × radius50
(недолгосрочный механический стресс)
corediameter 150 × (во время пользы с высокой силой лазера)
corediameter 150 × (во время пользы с высокой силой лазера)
Применения:
◆Точное представление передачи на ультрафиолетов waveband, antiγ-Рэй
на 800nm;
◆Приложенный в анализе спектра ультрафиолетова,
передача лазера, обнаружение здоровья,
ядерная энергия и полупроводник etc;
◆NA=0.22±0.02 (0.1to 0,28 по запросу);
◆Приложенный в анализе спектра ультрафиолетова,
передача лазера, обнаружение здоровья,
ядерная энергия и полупроводник etc;
◆NA=0.22±0.02 (0.1to 0,28 по запросу);
