китай категории
Русский язык

Ундопед полу- изолируя вафля ХВПЭ нитрида галлия и тип шаблона

Номер модели:ГаН-001
Место происхождения:Китай
Количество минимального заказа:1шт
Термины компенсации:L/C, T/T
Способность поставкы:10pcs/month
Срок поставки:2-4 Weeks
контакт

Add to Cart

Проверенные Поставщика
Shanghai Shanghai China
Адрес: Комната 1-1805, No.1079 улица Дианшанху, район Цинпу, город Шанхай, Китай /201799
последний раз поставщика входа: в рамках 13 .
Информация о продукте Профиль Компании
Информация о продукте

вафля ГаН нитрида галлия метода 2инч ХВПЭ, свободные стоящие субстраты для ЛД, обломоки ГаН ГаН размера 10кс10мм, вафля ХВПЭ ГаН


О особенности ГаН введите

Растущий спрос для высокоскоростных, высокотемпературных и высоких сил-регулируя возможностей делал

индустрия полупроводника переосмысливает выбор материала используемые как полупроводники. Например,

по мере того как различные более быстрые и более небольшие вычислительные приборы возникают, польза кремния делает ее трудной вытерпеть закон Мооре. Но также в вафле производительности электроники, поэтому полупроводнике ГаН растет вне для потребности.

Должен к своим уникальному пробивному напряжению характеристик (высокое максимальное настоящего, высокой, и высокой переключая частоте), нитрид ГаН галлия уникальный материал выбора для того чтобы разрешить энергитические проблемы будущего. ГаН основало системы имеет более высокий энергетический коэффициент полезного действия, таким образом уменьшающ потери электропитания, переключите на более высокой частоте, таким образом уменьшающ размер и вес.

Технология ГаН использована в многочисленных высокомощных применениях как электропитания промышленных, потребителя и сервера, привод солнечных, АК и инверторы УПС, и гибридные и электрические автомобили. Фуртерморе,

ГаН идеально одето для применений РФ как клетчатые базовые станции, радиолокаторы и кабельное телевидение

инфраструктура в участках сети, воздушно-космического пространства и обороны, спасибо своя высокая пробивная напряженность,

малошумная диаграмма и высокие линеарности.






2" субстраты ГаН
ДетальГаН-ФС-НГаН-ФС-СИ
Размеры± 1мм Ф 50.8мм
Плотность дефекта МаркоУровеньсм-2 ≤ 2
Уровень б> 2 см-2
Толщина330 µм ± 25
Ориентация± 0.5° К-оси (0001)
Ориентация плоская± 0.5° (1-100), ± 16,0 1.0мм
Вторичная ориентация плоская± 3° (11-20), 8,0 ± 1.0мм
ТТВ (полное изменение толщины)µм ≤15
СМЫЧОКµм ≤20
Тип кондукцииН типаПолу-изолировать
Резистивность (300К)< 0="">>106 Ω·см
Плотность дислокацииЧем 5кс106 см-2
Годная к употреблению поверхностная область> 90%
ПолироватьЛицевая поверхность: Ра < 0="">
Задняя поверхность: Точная земля
ПакетУпакованный в окружающей среде чистой комнаты класса 100, в одиночных контейнерах вафли, под атмосферой азота.

Применения

  1. - Различное СИД: белое СИД, фиолетовое СИД, ультрафиолетов СИД, голубое СИД
  2. - Лазерные диоды: фиолетовый ЛД, зеленый ЛД для ультра небольших репроекторов.
  3. - Электронные устройства силы
  4. - Высокочастотные электронные устройства
  5. - Экологическое обнаружение
  6. Использование ■
  7. Субстраты для эпитаксиального роста МОКВД етк.
China Ундопед полу- изолируя вафля ХВПЭ нитрида галлия и тип шаблона supplier

Ундопед полу- изолируя вафля ХВПЭ нитрида галлия и тип шаблона

Запрос Корзина 0