продукты
Поставщики
Sign in
Register
Группа ZEIT
Pursuing Excellence without Limits!
Manufacturer from China
Активный участник
4 лет
Главная
продукты.
Профиль Компании
Контроль качества
Свяжитесь с нами
Запрос цены:
Русский язык
English
Français
Español
日本語
Português
Оптически оборудование для нанесения покрытия (8)
Оптически оборудование для испытаний (8)
Субстрат Photomask (8)
Доводочный станок Magnetorheological (6)
Оптически элементы (56)
Атомное оборудование низложения слоя (11)
Магнетрон брызгая лакировочная машина (10)
Аппаратура обнаружения поверхностного дефекта (5)
Измерительная система двойного лучепреломления (10)
Оборудование осмотра плоскостности (3)
Поверхностное оборудование осмотра (4)
Не стандартное оборудование (3)
Автоматизированные решения производственной линии (2)
Система интерферометра лазера (9)
Цифров Autocollimator (4)
Объектив интерферометра (2)
Главная
/
продукты
/
Субстрат Photomask
Категории продукта
Оптически оборудование для нанесения покрытия
[8]
Оптически оборудование для испытаний
[8]
Субстрат Photomask
[8]
Доводочный станок Magnetorheological
[6]
Оптически элементы
[56]
Атомное оборудование низложения слоя
[11]
Магнетрон брызгая лакировочная машина
[10]
Аппаратура обнаружения поверхностного дефекта
[5]
Измерительная система двойного лучепреломления
[10]
Оборудование осмотра плоскостности
[3]
Поверхностное оборудование осмотра
[4]
Не стандартное оборудование
[3]
Автоматизированные решения производственной линии
[2]
Система интерферометра лазера
[9]
Цифров Autocollimator
[4]
Объектив интерферометра
[2]
контакт
Группа ZEIT
Город:
chengdu
Область/Штат:
sichuan
Страна/регион:
china
Контактное лицо:
MsTyra
контактная информация
контакт
1 - 8 из 8
Субстрат Photomask
Субстрат 5×5×0,09 фотомаски кварца микро- Электро механических систем 5009 дюймов
5 дюймов × 5 дюймов × 0,09 дюйма Кварцевая подложка для фотомаски для использования в чипах Приложения Области процесса фотолитограф......
контакт
Add to Cart
6×6×0,12 дюйма покрытие фоторезиста субстрата фотошаблона МЭМС хром
6 дюймов × 6 дюймов × 0,12 дюйма Кварцевая подложка для фотомаски для использования в чипах Приложения Области процесса фотолитограф......
контакт
Add to Cart
6×6×0,25 дюйма субстрат фотомаски кварца для процесса фотолитографии
6 дюймов × 6 дюймов × 0,25 дюйма Кварцевая подложка для фотомаски для использования в чипах Приложения Области процесса фотолитограф......
контакт
Add to Cart
подложка Фотомаски кварца 127×127мм для пользы плоскопанельного дисплея
субстрат Photomask кварца × 127mm 127mm для пользы FPD Применения Поля процесса фотолитографии, как производство обломока интегральной схема......
контакт
Add to Cart
подложка фотомаски 152×152мм ФПД для микро- нано изготовления
субстрат Photomask кварца × 152mm 152mm для пользы FPD Применения Поля процесса фотолитографии, как производство обломока интегральной схема......
контакт
Add to Cart
подложка фотомаски кварца 350×300мм для производства микросхемы интегральной схемы
субстрат Photomask кварца × 300mm 350mm для пользы FPD Применения Поля процесса фотолитографии, как производство обломока интегральной схема......
контакт
Add to Cart
Шлифовка Полировка Хромирование 5280 Кварцевая фотомаска Подложка 800мм×520мм
субстрат Photomask кварца 800mm×520mm для пользы FPD Применения Поля процесса фотолитографии, как производство обломока интегральной схемаы,......
контакт
Add to Cart
Шлифовальная полировка кварцевой фотомаски для использования с FPD и чипом
Субстрат Photomask кварца для FPD и пользы обломока Зона применения Поля процесса фотолитографии, как производство обломока интегральной схе......
контакт
Add to Cart
Запрос Корзина
0
Выбрать все
контакт