Группа ZEIT
Pursuing Excellence without Limits！
Add to Cart
Субстрат Photomask кварца для FPD и пользы обломока
Зона применения
Поля процесса фотолитографии, как производство обломока интегральной схемаы, FPD (плоский экран),
MEMS (микро- Electro механические системы), etc.
Принцип деятельности
Маска графическая мастерская маска обыкновенно используемая в фотолитографии микро-nano изготовления. Письменная структура
формирует на прозрачном субстрате непрозрачным photomask, и после этого графическая информация возвращена к
субстрат продукта через процесс выдержки.
Особенности
Субстрат Photomask для пользы FPD
| Модель/материал | Размер | Перерабатывающие мощности |
| 5280 / Кварц | × 520mm 800mm | Молоть, полируя, плакировка Chrome, клея |
| 3035 / Кварц | × 300mm 350mm | Молоть, полируя, плакировка Chrome, клея |
| 6 дюймов/кварц | × 152mm 152mm | Молоть, полируя, плакировка Chrome, клея |
| 5 дюймов/кварц | × 127mm 127mm | Молоть, полируя, плакировка Chrome, клея |
Субстрат Photomask для пользы обломока
| Модель/материал | Размер | Перерабатывающие мощности |
| 5009 / Кварц | 5 дюймов × 5 дюймов × 0,09 дюйма | Молоть, полируя, плакировка Chrome, клея |
| 6012 / Кварц | 6 дюймов × 6 дюймов × 0,12 дюйма | Молоть, полируя, плакировка Chrome, клея |
| 6025 / Кварц | 6 дюймов × × 6inches 0,25 дюйма | Молоть, полируя, плакировка Chrome, клея |
Поток процесса
Обнаружение сырья →
Молоть → грубый
Полировать → грубый
Чистка маски →
Осмотр представления сырья →
→ покрыло хромом
Эксплуатационное испытание маски →
Покрытие фоторезиста →
Упаковка →
Транспортировать →
Наши преимущества
Мы изготовитель.
Зрелый процесс.
Ответ не позднее 24 рабочие часы.
Наша аттестация ISO
Части наших патентов
Части наших наград и квалификации НИОКР