Группа ZEIT
Pursuing Excellence without Limits！
Add to Cart
субстрат Photomask кварца × 152mm 152mm для пользы FPD
Применения
Поля процесса фотолитографии, как производство обломока интегральной схемаы, FPD (плоский экран),
MEMS (микро- Electro механические системы), etc.
Принцип деятельности
Маска графическая мастерская маска обыкновенно используемая в фотолитографии микро-nano изготовления. Письменная структура
формирует на прозрачном субстрате непрозрачным photomask, и после этого графическая информация возвращена к
субстрат продукта через процесс выдержки.
Особенности
Субстрат Photomask для пользы FPD
| Модель/материал | Размер | Перерабатывающие мощности |
| 6 дюймов/кварц | × 152mm 152mm | Молоть, полируя, плакировка Chrome, клея |
Поток процесса
Обнаружение сырья →;
Молоть → грубый;
Полировать → грубый;
Чистка маски →;
Осмотр представления сырья →;
→ покрыло хромом;
Эксплуатационное испытание маски →;
Покрытие фоторезиста →;
Упаковка →;
Транспортировать →.
Наши преимущества
Мы изготовитель.
Зрелый процесс.
Ответ не позднее 24 рабочие часы.
Наша аттестация ISO
Части наших патентов
Части наших наград и квалификации НИОКР