Achemetal Tungsten & Molybdenum Co., Ltd.
Subtlety and perseverance
Add to Cart
Характер продукции
Низложение химического пара металла органическое (MOCVD)
Низложение химического пара металла органическое (MOCVD для краткости) основной метод для кристаллов тонк-слоя одиночных технические сплав группы роста III-V & группы II-VI смеси и. Введите сервировку водопода или азота как газ несущей в жидкость для того чтобы снести пар вне, смешайте смесь с v гидридами группы (как NH3, PH3, AsH3), введите смесь в комнату реакции прореагировать на нагретой поверхности субстрата, и внешне удлините для того чтобы вырасти составные кристаллические фильмы.
Сияющее ядр СИД вызванный композиционный материал «эпитаксиальным куском». Должный к успешному применению технологии MOCVD в эпитаксиальных кусках, используя количество этого вида оборудования можно увеличить быстро.
Рабочая температура оборудования MOCVD во время деятельности выше чем 2,000℃, поэтому вольфрам-молибден предпочитаемый материал для частично компонентов оборудования.
Техническая характеристика изделия
Химические требования
| Элемент | Ni | Mg | Fe | Pb | Al | Bi | Si | CD | Ca | P |
| Концентрация (%) | 0,003 | 0,002 | 0,005 | 0,0001 | 0,002 | 0,0001 | 0,002 | 0,0001 | 0,002 | 0,001 |
| Элемент | C | O | N | Sb | Sn | Mo | ||||
| Концентрация (%) | 0,01 | 0,003 | 0,003 | 0,0005 | 0,0001 | баланс | ||||
Деталь продукта
Органические системы низложения химического пара
Особенность
Превосходная проводимость электричества
Сопротивление высокой температуры
Высокая точка плавления, высокая оксидация и сопротивление размывания.