Achemetal Tungsten & Molybdenum Co., Ltd.
Subtlety and perseverance
Add to Cart
Высокие плавя части PointTungsten для изолятора нити оборудования вживления иона
Описание продуктов
Вживление иона вид материальной высокой технологии модификации поверхности которая расцветала и широко использованный интернационально в прошлых 3 десятилетиях, осуществляя оптимизирование поверхностных свойств материалов или может получить некоторые новые превосходные свойства. Должный к уникальным и выдающим характеристикам этой высокой технологии, очень важная технология в современном производстве интегральной схемаы. Оно использует машину вживления иона для того чтобы осуществить давать допинг полупроводника и изменить проводимость и структуру транзистора полупроводника.
Переведенный с www.DeepL.com/Translator (свободная версия)
В виду того что преобразование источника иона к ионам плазмы во время впрыски иона производит рабочую температуру сверх 2000°C, извержение луча иона также производит большое количество энергии иона кинетической, и типичные металлы быстро горят и плавят. Поэтому, необходимы, что поддерживают инертные металлы относительно большой массы и плотности направление стойкости отстрела и роста луча иона компонентной. Высокотемпературная химическая стойкость, низкое термальное вырождение и длинный срок службы материалов вольфрама сделали ими предпочитаемый выбор для частей и потребляемых веществ источника иона для implanters иона в индустрии полупроводника. Защищая бочонок испуская катода, испуская панель, разбивочная фиксируя штанга, плита поляка нити внутри дуги начиная камеру, etc. эти совместно как части вольфрама вживления иона.
Размер
| Классификация | Спецификация |
| Винты | M3, M4, M5, M6, M8, M10, M16, etc. |
| Гайки | M3, M4, M5, M6, M8, M10, M16, etc. |
| Штыри | Обрабатывать по мере необходимости |
| Заклепки | Ф1.2, Ф1.5, Ф1.8, Ф2.0, Ф2.5, Ф3 |
| Набивки | Обрабатывать по мере необходимости |
