Achemetal Tungsten & Molybdenum Co., Ltd.
Subtlety and perseverance
Add to Cart
Части вольфрама для изготовителя фарфора equipmentrom вживления иона
характер продукции
Вживление иона вид материальной высокой технологии модификации поверхности которая расцветала и широко использованный интернационально в прошлых 3 десятилетиях, осуществляя оптимизирование поверхностных свойств материалов или может получить некоторые новые превосходные свойства. Должный к уникальным и выдающим характеристикам этой высокой технологии, очень важная технология в современном производстве интегральной схемаы. Оно использует машину вживления иона для того чтобы осуществить давать допинг полупроводника и изменить проводимость и структуру транзистора полупроводника.
В виду того что преобразование источника иона к ионам плазмы во время впрыски иона производит рабочую температуру сверх 2000°C, извержение луча иона также производит большое количество энергии иона кинетической, и типичные металлы быстро горят и плавят. Поэтому, необходимы, что поддерживают инертные металлы относительно большой массы и плотности направление стойкости отстрела и роста луча иона компонентной. Высокотемпературная химическая стойкость, низкое термальное вырождение и длинный срок службы материалов вольфрама сделали ими предпочитаемый выбор для частей и потребляемых веществ источника иона для implanters иона в индустрии полупроводника. Защищая бочонок испуская катода, испуская панель, разбивочная фиксируя штанга, плита поляка нити внутри дуги начиная камеру, etc. эти совместно как части вольфрама вживления иона.
Шоу продукта
Родственные продукты: