
Add to Cart
Кабель ОЭМ высококачественный ФПК плоский для электрического робота
Характер продукции
Быстрые детали:
Тип: ФПК
слои: 1-4 слоев
Законченные размеры доски: 10 кс 15, 250 кс 380мм
Толщина доски: 0,057 до 0.6мм
Законченный допуск толщины доски: ±2 мильс
Диаметр буровой скважины: 0,15 до 6.7мм
Законченный через диаметр: 0.1мм (минимум)
Толщина внутреннего слоя диэлектрическая (1/2 мильс ПИ с прилипателем 15ум): 0,0275 до 0.1мм
Допуск диаметра отверстия ПТХ: ±2 мильс
Допуск диаметра отверстия НПТХ: ±1 мил
Допуск положения отверстия (сравненный с данными по Гербер): ±1 мил
Допуск после вытравлять: вообще ± 30, 15% для импеданса
Допуск изображения, который нужно отображать (минимум): ±3 мильс
Допуск изображения к краю (минимуму): ±2 мильс
Регистрация слоя крышки (минимум): 6 мильс
Диаметр пробивая отверстия: 0,1 до 5.0мм
Допуск вставки прилипателя и укрепления: ±0.3мм
Пробивать умирает допуск размера (трудный умрите): ±4 мильс
Пробивать умирает допуск размера (мягкий умрите): ±12 мильс
Допуск импеданса (минимум): ± 10%
Допуск СМТ и ширина тангажа (минимум): ±4 мильс
Аттестация:
РОХС
ИСО9001: 2000
Аттестация КЭ
Аттестация СГС неэтилированная
Материальный тип | ПИ, медь и Ни/Ау |
Толщина доски | 0,057 до 0.6мм |
Поверхностная отделка | ХАСЛ/ХАСЛ неэтилированное, ХАЛ, химическое олово, серебр погружения/золото, ОСП, плакировка золота |
Слой | 1-20 слой |
Диаметр буровой скважины | 0,15 до 6.7мм |
Толщина меди отверстия ПТХ | 8 до 30μм |
Медная толщина | 0,3 ОЗ к 6 оз |
Допуск | Допуск формы: допуск ±0.13/Холе: ПТХ: ±0.076 НПТХ: ±0.05 |
Сертификат | УЛ, ИСО 9001, ИСО 14001 |
Профилировать | Пробивать, направлять, скашивая, В-Кутинг |
Применение:
* оптически приемистость для А/В & компьютера (или КД-РВ & ДВД-РВ)
* камера цифров (или ККД)
* модуль ЛКД для мобильного телефона
* мотор вибрации для мобильного телефона
Мы можем обеспечить универсальное обслуживание:
1. Монтажные платы ПКБ.
2. Э-тест.
3. Покупать электронных блоков.
4. Собрание ПКБ: доступный на СМТ, БГА, ПОГРУЖЕНИИ.
5. Функциональный тест ПКБА.
6. Собрание приложения.