Suzhou Haichuan Rare Metal Products Co., Ltd.

Компания по производству редких металлов «Сучжоу Хайчуань»

Manufacturer from China
Проверенные Поставщика
2 лет
Главная / продукты / Sputtering Target /

Тантальная плита 99,95% Чистая тантальная цель для распыливания / Тантальная плита / лист / диск

контакт
Suzhou Haichuan Rare Metal Products Co., Ltd.
Город:suzhou
Страна/регион:china
Контактное лицо:MrXu
контакт

Тантальная плита 99,95% Чистая тантальная цель для распыливания / Тантальная плита / лист / диск

Спросите последнюю цену
Номер модели :21
Место происхождения :Цзянсу, Китай
Минимальное количество заказов :10 кг
Условия оплаты :L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Способность к поставкам :10 тонн в месяц
Время доставки :10-15 дней
Подробная информация об упаковке :Деревянная коробка
Материал :Тантал
Форма :таможня, плита
Применение :Промышленность
Размер :По обычаю
more
контакт

Add to Cart

Найти похожие видео
Посмотреть описание продукта

Тантальная плита 99,95% Чистый тантальный плит Цель/тантальная плита/лист/диск

 

Цель для распыления танталом - это дискообразный материал, изготовленный из высокочистого тантального металла и используемый в процессе, называемом распылением.которые отбивают атомы с поверхности цели и осаждают их на субстрат, чтобы создать тонкую пленку.

 

 

Наименование продукта
молекулярная формула
Чистота
Спецификация
Цель рения
Относительно
4N-5N
Настраивается для цели самолета, вращающейся цели, цели трубы и т.д.
Тантальная мишень
Да.
3N-4N
Цель ниобия
Nb
3N-4N
Ванадийная мишень
V
3N-4N
Титановая мишень
Ти
2N5-4N
Цель хрома
КР
2N5-4N
Медная цель
Ку
3N-5N
Цель алюминия
Аль.
2N5-4N
Цель кобальта
О
3N5
Никельная мишень
Ни.
3N-5N
Цель рутения
Ru
3N-4N
Иридийная мишень
Я
3N-4N
Цель родия
РН
4N
Цель - бисмут.
Би-би
3N-4N
Цель палладия.
Pd
3N-4N
Серебряная мишень
АГ
4N-5N
Золотая цель
Оу
4N-5N

 

Тантальная плита 99,95% Чистая тантальная цель для распыливания / Тантальная плита / лист / диск

 

Особенности:

Высокая чистота: цели для распыливания танталя изготавливаются из высокочистого металла танталя, обычно 99,99% или выше, чтобы обеспечить наивысшее качество и консистенцию отложенной тонкой пленки.

Настраиваемый размер и форма: Цели для распыливания танталя доступны в различных размерах и формах, включая круглые, прямоугольные и кольцевые, для удовлетворения конкретных требований процесса распыливания.

Хорошая теплопроводность и электрическая проводимость: цели для распыливания танталом имеют хорошую теплопроводность и электрическую проводимость, что делает их подходящими для широкого спектра применений.

Высокая температура плавления: Тантал имеет высокую температуру плавления 2996°C, что делает его подходящим для применения при высокой температуре.

 

Применение:

Полупроводниковая промышленность: Цели распыливания танталом используются в полупроводниковой промышленности для отложения тонких пленок тантала и материалов на основе тантала для интегральных схем, микропроцессоров,и другие электронные компоненты.

Оптическая промышленность: Цели распыливания танталя используются в оптической промышленности для отложения тонких пленок танталя для зеркал, фильтров и других оптических компонентов.

Аэрокосмическая промышленность: цели распыливания танталом используются в аэрокосмической промышленности для отложения покрытий на космические аппараты и спутники для улучшения их производительности и долговечности.

Медицинские изделия: цели для распыливания танталом используются при производстве медицинских изделий, включая имплантаты и диагностические датчики, из-за биосовместимости и коррозионной стойкости тантала.

Энергетическая промышленность: цели для распыливания танталом используются в энергетической промышленности для отложения покрытий на части ядерных реакторов и топливных элементов для повышения производительности и долговечности.

 

 

Запрос Корзина 0