Shenzhen Hicorpwell Technology Co., Ltd
Качество не только поступок, оно привычка.
Add to Cart
Высокие или низкие волокна концентрации 100 um/200um/300um/400um иона гидроксила (OH) для Ультрафиолетовый-к-видимого видим-к-NIR применению
Технический данные
Длина волны/spectralrangeUV: 190 – 1200nm
WF: 300 – 2400nm
± 0,12 0,02 численной апертуры (NA)|0,22 ± 0,02|0,28 ± 0,02orcustomised
Работая temperature-190bis+350°C
Диаметр ядра доступный от 25 до 2000μm
Стандартное ядр/плакирование ratios1: 1,04|1: 1,06|1: 1,1|1: 1,15|1: 1,2|1: 1,25|1: 1,4 или подгонянный
Содержание OH УЛЬТРАФИОЛЕТОВОЕ: высокий (>700ppm)
WF: низкий уровень (<1ppm>
Волокна с содержанием OH<0>
Стандартное доказательство test100kpsi (нейлон, ETFE, куртка акрилита) |70kpsi (куртка polyimide)
Минимальный гнуть диаметр плакирования × radius50 (недолгосрочный механический стресс)
corediameter 150 × (во время пользы с высокой силой лазера)
◆Точное представление передачи на ультрафиолетов waveband, antiγ-Рэй на 800nm;
◆Приложенный в анализе спектра ультрафиолетова, передача лазера, обнаружение здоровья, ядерная энергия и
полупроводник etc;
◆NA=0.22±0.02 (0.1to 0,28 по запросу);
CCDR: 1:1.04, 1:1.1, 1:1.2 (1:1.06, 1:1.15, 1:1.25, запрос 1:1.4on)
Первый выбор для применений включая спектроскопию, медицинские диагностики, медицинскую технологию, средства доставки лазера и еще многие.
| Ядр [μm] (±2%) | 50 | 100 | 105 | 115 | 192 | 200 | 300 | 365 | 400 | 500 | 600 | 800 | 1000 |
| плакирование [μm] (±2%) | 125 | 110 | 125 | 125 | 200 | 220 | 330 | 400 | 440 | 550 | 660 | 880 | 1100 |
| материал для покрытий: Акрилит, диапазон температур [℃]: -40-85 | |||||||||||||
| покрывать [μm] (±3%) | 245 | 245 | 245 | 245 | 245 | 350 | 450 | 550 | 550 | 770 | 840 | 1100 | 1300 |
| материал для покрытий: Polymide, диапазон температур [℃]: -65-300 | |||||||||||||
| покрывать [μm] (±3%) | 145 | 125 | 145 | 145 | 145 | 245 | 355 | 425 | 480 | 575 | 710 | - | - |
