Категории продукта

Обнаженное стекловолокно

[163]

Стекло - кабель оптическ волокно волокна

[99]

Волоконно-оптические Пигтейл

[60]

Кабель ХДМИ АОК

[73]

волоконно-оптических кабелей патч

[124]

волоконно-оптический трансивер

[25]

Кабель Lan локальных сетей

[31]

Инструменты испытания волокна

[69]

Сеть безопасностью предприятия

[23]

наборы прекращения волокна

[48]

Волоконно оптические компоненты

[145]

Умное применение силы

[31]

электрическая система гибрида солнечного ветра

[34]

Домашнее решение силы

[27]

контакт

Shenzhen Hicorpwell Technology Co., Ltd

Город:shenzhen

Область/Штат:guangdong

Страна/регион:china

Контактное лицо:MrsYvone Si

контактная информация

контакт

China волокно кремнезема ядра 100μm альтернативное с трудным плакированием полимера wholesale

волокно кремнезема ядра 100μm альтернативное с трудным плакированием полимера

Спросите последнюю цену

Видеоканал

Номер модели :Рентабельное альтернативное волокно кремнезема с трудным плакированием полимера в фотодинамической т

Место происхождения :Китай

Количество минимального заказа :5КМ в вьюрок, 10км в вьюрок

Условия оплаты :Западное соединение, Л/К, Т/Т

Способность поставки :1000км в месяц

Упаковывая детали :Стандартная длина: 5км/рел или 10км в вьюрок (согласно вашим требованиям)

Цвет Пайнткоат :Естественный

Ядр (ум) :50ум-1000ум

Диаметр ядра :100μм 200ум 300ум 400ум

Особенность :рентабельные волокна кремнезема

Численная апертура (NA) : 0,02/± 0,37 0,39 0,02 ±

Высокий НА : 0,02 ± 0,57

контакт

Add to Cart

Посмотреть описание продукта

Рентабельное альтернативное волокно кремнезема с трудным плакированием полимера от освещения к фотодинамической терапии

Технические данные

Длина волны/спектральный ряд HUV и HWF: 350 – 2200 nm

Численная апертура (NA) 0,02 ± 0,37 | 0,02 ± 0,48 | 0,02 ± 0,52 | 0,02 ± 0,57

Рабочая температура -40 до °C +150

Диаметр ядра доступный от 100 к μm 2000

Содержание HUV OH: Максимум (> 700 ppm)

HWF: низкий уровень (< 1="" ppm="">

Стандартное prooftest kpsi 100

Минимальный диаметр плакирования × радиуса загиба 50 (недолгосрочный механический стресс)

диаметр ядра × 150 (во время пользы с высокой силой лазера)

Значения амортизации по отношению к длине волны: см. P. 19