Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.

Профессиональная платформа по закупкам в полупроводниковой промышленности, чтобы предоставить вам превосходное качество и разнообразие продуктов и технических услуг

Manufacturer from China
Активный участник
4 лет
Главная / продукты /

Вафля Sic эпитаксиальная

контакт
Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.
Город:shanghai
Область/Штат:shanghai
Страна/регион:china
Контактное лицо:Xiwen Bai (Ciel)
контакт
1 - 10 из 33

 Вафля Sic эпитаксиальная

4 дюйма 4H-SiC Субстрат P-уровне SI 500.0±25.0μm MPD≤5/cm2 Сопротивляемость≥1E5Ω·cm Для мощной микроволновой печи

Субстрат P на уровне SI 500.0±25.0μm MPD≤5/cm2 Resistivity≥1E5Ω JDCD03-002-002 4inch 4H-SiC·см для приборов силы и микроволны Обзор SiC исп......
контакт

Add to Cart

4 дюйма 4H-SiC субстрат P-Level SI 500.0±25.0μM MPD≤0.3/Cm2 Сопротивляемость≥1E9Ω·Cm Для мощной микроволновой печи

JDCD03-002-001 4-дюймовая подложка 4H-SiC P-уровень SI 500,0±25,0 мкм MPD≤0,3/см2 Удельное сопротивление≥1E9Ω·см для силовых и микроволновых устройств...
контакт

Add to Cart

4-дюймовая подложка 4H-SiC P-Level N-Type 350,0±25,0 мкм MPD≤0,5/см2 Удельное сопротивление 0,015 Ом•см — 0,025 Ом•см

4-дюймовая подложка 4H-SiC D-уровень N-типа 350,0±25,0 мкм MPD≤5/см2 Удельное сопротивление 0,015 Ом•см — 0,025 Ом•см для силовых и микроволновых устр...
контакт

Add to Cart

C-стороны вафли одиночного Кристл SiC CMP Si-стороны эпитаксиальной оптически польский

C-сторона вафли JDCD03-001-004 SiC эпитаксиальная: Оптически польское, Si-сторона: CMP Обзор Оно включает рост кристаллов одного материала н......
контакт

Add to Cart

6-дюймовый 4H SiC N тип подложки 47,5 мм без вторичной плоской

6-дюймовая подложка 4H-SiC N-типа P-SBD класса 350,0 ± 25,0 мкк MPD≤0,5/см2Удельное сопротивление 0,015 Ом•см — 0,025 Ом•см для мощности и мик......
контакт

Add to Cart

подложка вафли СиК эпитаксиальной вафли 4Х СиК для фотонных приборов ИСО9001

Эпитаксиальная пластина 4H SiC ≤0,2 /см2 150,0 мм +0 мм/-0,2 мм 47,5 мм ± 1,5 мм JDCD03-001-004 Обзор Эпитаксальная пластина предст......
контакт

Add to Cart

Уровень 260μm p вафли полупроводника 2 дюймов для приборов микроволны приборов силы

Субстрат P на уровне 4H-N/SI260μm±25μm JDCD03-001-001 2-дюймовый SiC для приборов силы и приборов микроволны Обзор Уникальные электронные и терм......
контакт

Add to Cart

вафля ≤0.2 /cm2 0.015Ω 4H SiC эпитаксиальная•cm-0.025Ω•см 150,0 mm +0mm/-0.2mm

вафля ≤0.2 /Cm2 0.015Ω 4H SiC эпитаксиальная•Cm-0.025Ω•См 150,0 mm +0mm/-0.2mm JDCD03-001-004 Обзор Вафли 200 mm можно использовать для раз......
контакт

Add to Cart

Ранг MOS p SBD p уровня p вафли SiC Epi 2 дюймов ранг ранг 150.0mm d

Субстрата P на уровне P-SBD SiC ранга P-MOS ранг d 2-дюймового ранг 150,0 mm +0mm/-0.2mm Субстрат P на уровне 4H-N/SI260μm±25μm JDCD03-001-001 2-дюйм....
контакт

Add to Cart

150,0 мм + форма кристалла вафли 4Х СиК 0мм/-0.2мм эпитаксиальная кристаллическая

150,0 мм +0 мм/-0,2 мм Эпитаксиальная пластина Sic вне оси: 4 ° в направлении <11-20> ± 0,5 ° JDCD03-001-004 Обзор Пластина S......
контакт

Add to Cart

Запрос Корзина 0