CO. материалов металла Baoji Feiteng, Ltd.

Future Technology, Faithful Trading

Manufacturer from China
Сайт Участник
4 лет
Главная / продукты / Tube Targets /

Цель трубки ti CVD Gr1 низкой плотности высокопрочная PVD

контакт
CO. материалов металла Baoji Feiteng, Ltd.
Город:baoji
Область/Штат:Shaanxi
Страна/регион:china
Контактное лицо:MrHang Ning
контакт

Цель трубки ti CVD Gr1 низкой плотности высокопрочная PVD

Спросите последнюю цену
Номер модели :Цель трубки титана
Место происхождения :Baoji, Шэньси, Китай
Количество минимального заказа :Быть обсуженным
Условия оплаты :T/T
Способность поставки :Быть обсуженным
Срок поставки :Быть обсуженным
Упаковывая детали :Пакет вакуума в деревянном случае
Упаковка :Пакет вакуума в деревянном случае
Размер :φ133*φ125*840
Спецификация :ASTM B861-06
Ранг :Gr1
more
контакт

Add to Cart

Найти похожие видео
Посмотреть описание продукта

Титан Gr1 ASTM B861-06 цели покрытия вакуума цели трубки титана 133OD*125ID*840

 Имя деталя

 Цель трубки титана

 Размер  φ133*φ125*840
 Ранг  Gr1
 Упаковка  Пакет вакуума в деревянном случае
 Порт места  Порт Сиань, порт Пекин, порт Шанхая, порт Гуанчжоу, порт Шэньчжэня

 

 

Покрывая цель источник брызгать который формирует различные функциональные фильмы на субстрате магнетроном брызгая, плакировка иона мульти-дуги или другие типы систем покрытия под соотвествующими технологическими условиями. Для того чтобы положить его просто, материал цели материал цели высокоскоростной бомбардировки запряженных частиц. При использовании в с высокой энергией лазерных оружиях, различные плотности мощности, различные формы волны выхода и различные длины волны лазера взаимодействуют с различными целями, различным убийством и влияния разрушения будут произведены. Покрытие вакуума ссылается на нагревая материалы металла или неметалла под условиями глубокого вакуума, так, что оно испарится и конденсирует на поверхности покрытых частей (металла, полупроводника или изолятора) и формирует метод фильма. Технология покрытия вакуума вообще разделена в 2 категории, а именно физической технологию низложения пара (PVD) и технологию низложения химического пара (CVD). Физическая технология низложения пара ссылается на метод сразу депозировать покрывая материал на поверхности субстрата газифицированием в атомы и молекулы или ионизацией в ионы различными физическими методами под условиями вакуума. Особенности:
(1) всем видам покрывая технологии нужно специфическая окружающая среда вакуума, для обеспечения что материал фильма в нагревая испарении или процесс брызгать сформированный движением молекул пара, не столкновением, блоком и взаимодействием много атмосферического молекул газа, и для того чтобы исключить отрицательные влияния примесей в атмосфере.
(2) все виды покрывая потребности технологии иметь источник или цель испарения, испарить материал фильма в газ. Должный к непрерывному улучшению источника или цели, ряд выбора материалов кинопроизводства значительно был расширен. Ли металл, сплав металла, межметаллическая смесь, керамический или органический материал, все виды металла и диэлектрические фильмы можно испариться, но также различные материалы можно испариться в то же время для того чтобы получить разнослоистые фильмы.
(3) испарение или брызгать материалы создания фильма, в процессе формировать фильм с workpiece, который нужно покрыть, толщина фильма можно измерить и проконтролировать более точно, для обеспечения единообразия толщины фильма.

 

 

Особенности

1. Низкие плотность и высокопрочный
2. подгонянный согласно чертежам требуемым клиентами
3. сильная коррозионная устойчивость
4. сильное сопротивление жары
5. сопротивление низкой температуры
6. сопротивление жары

 

Запрос Корзина 0